深圳光譜鍍層測厚儀通過這些方法避免誤差

光譜鍍層測厚儀是將光打到樣品上時，樣品分子會使入射光發生散射，若部分散射光的頻率發生改變，則散射光與入射光之間的頻率差。本儀器主要就是通過確定物質的分子結構，針對固體、液體、氣體、**物、高分子等樣品均可以進行定性定量分析。 接下來和一六一起了解光譜鍍層測厚儀通過這些方法避免誤差。
盡管光譜鍍層測厚儀具有很高的精度，但是由于許多因素的影響，仍然存在一定的誤差，那么如何才能巧妙地避免本儀器的誤差呢?
1、系統誤差的來源
(1)當標準樣品和樣品的含量和化學組成不相同時，可能會導致矩陣線和分析線的強度發生變化，從而引入錯誤。
(2)當標準樣品的物理性質和樣品的物理性質不相同時，激發的特征譜線將不同，這將導致系統誤差。
(3)當處于澆鑄狀態的鋼樣品的金屬結構與處于退火，淬火，回火，熱軋和鍛造狀態的鋼樣品的金屬結構不同時，測得的數據將有所不同。
(4)未知元素光譜的重疊干擾。例如，在熔煉過程中添加脫氧劑和脫硫劑時，未知的合金元素會混入系統中，從而導致系統誤差。
(5)為了系統誤差，有必要嚴格遵守標準樣品制備的要求。為了檢查系統錯誤，有必要使用化學分析方法來分析多次校對的結果。
2、偶然誤差的來源
與樣品成分不均勻有關的誤差。由于光電光譜分析消耗的樣品很少，因此樣品中元素分布的不均勻性和組織結構的不均勻性會導致不同部位的分析不同，并偶爾出現誤差。
(1)在熔煉過程中引入夾雜物，導致偏析導致樣品中元素分布不均。
(2)樣品的缺陷，氣孔，裂縫，水泡等。
(3)諸如交叉研磨模式，樣品研磨的過熱，樣品研磨表面的時間過長以及指紋等因素。
(4)為了減少意外誤差，必須仔細取樣以樣品的不均勻性和樣品的鑄件缺陷。也可以重復分析幾次以減少分析誤差。
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