蒸發鍍膜設備成膜不均的原因

隨著鍍膜技術的發展，各種真空蒸發鍍膜設備逐漸出現。無論哪種真空蒸發鍍膜設備，薄膜的均勻性都會受到一些因素的影響。現在，我們用磁控濺射鍍膜機來分析成膜不均勻的因素。涂布機泵送不均勻會影響涂布均勻性。基底干凈很重要。真空鍍膜前，應仔細清潔基材表面，以達到工件除油、去污、脫水的目的。基材表面污染來源于各種灰塵、油脂、拋光膏、汗漬等。在加工和運輸過程中附著在零件上。在潮濕的環境中，基材表面容易氧化，形成氧化膜吸收氣體。這些污垢可以通過除油或化學方法來清除。干凈的基板不應直接放在外面，而應儲存在封閉的容器中，以減少污染。灰塵會堆積在涂裝室，所以清潔涂裝室，烘烤和脫氣，并將機器放置在干凈的環境中。注意擴散泵的回油。涂料的原料有很多，如樹脂、**硅、硅酸、聚合物等。輔料配比和配方不同，薄膜也不同。
涂布機的熱蒸發系統主要是指成膜裝置。涂布機中有許多成膜裝置，包括電阻加熱、電子槍蒸發、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等。我們將介紹電阻加熱和電子槍蒸發這兩種方法，因為這兩種方法被我們廣泛使用。從其結構和工作原理來看，蒸發鍍膜設備的電阻蒸發是目前應用較廣泛的蒸發方式，也是應用時間較長的蒸發方式。
它的工作方式是將鎢片制成舟，然后安裝在兩個電極之間，在舟的中心加入藥材，然后慢慢給電極通電。電流通過船，船通電加熱。這些低電壓和高電流使得具有高熔點的舟產生熱量，然后熱量被傳導到涂層材料。當舟的熱量**涂層材料的熔點時，材料會升華或蒸發。該方法操作方便，結構簡單，成本低廉，易于使用。當鎢舟蒸發涂層材料時，材料的熔點必須**鎢舟的熔點，否則無法進行。
真空蒸發鍍膜設備為什么要配冷水機？
這要從真空蒸發鍍膜設備的工作原理來看:膜料在高溫下蒸發，落到工件表面結晶。因為空氣會對蒸發的薄膜分子產生阻力，從而引起碰撞，使晶體變得粗糙、暗淡，所以需要在高真空下使晶體變得細小、光亮。真空度不高，晶體會失去光澤，結合力差。冷水機組配有制冷系統和冷卻水循環系統，水溫可在5℃ ~ 30℃范圍內調節控制，可達到高精度、高效率控溫的目的。冷卻原理是:冷卻系統將水冷卻，然后低溫冷卻水由水泵送至真空鍍膜機冷卻。水冷器的冷凍水帶走熱量，升溫后流回水箱，達到冷卻效果。
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